在掃描電鏡（SEM）中，為了避免或減少樣品受到電子束的損傷，可以采取以下措施：

適當(dāng)選擇加速電壓和電子束流密度：選擇適當(dāng)?shù)募铀匐妷汉碗娮邮髅芏纫员苊鈱?duì)樣品造成過(guò)大的損傷。通常，使用較低的加速電壓和較小的電子束流密度可以減少對(duì)樣品的損傷風(fēng)險(xiǎn)。

控制掃描時(shí)間和掃描區(qū)域：限制電子束在樣品上的停留時(shí)間和掃描區(qū)域，以減少局部的熱和電荷積累。可以采用較快的掃描速度和較小的掃描區(qū)域，避免在同一位置停留過(guò)久。

降低電子束能量：在某些情況下，降低電子束能量可以減少電子束與樣品之間的相互作用，從而減少損傷的風(fēng)險(xiǎn)。不過(guò)，這可能會(huì)對(duì)圖像的分辨率和對(duì)比度產(chǎn)生一定影響，需要權(quán)衡考慮。

使用低溫技術(shù)：對(duì)于某些樣品，如生物樣品或熱敏感材料，可以采用低溫技術(shù)，如冷凍或低溫固化，以減少樣品受到的熱損傷。

控制電子束和樣品之間的工作距離：保持適當(dāng)?shù)墓ぷ骶嚯x可以減少電子束與樣品之間的相互作用，減少能量傳遞和樣品損傷的風(fēng)險(xiǎn)。根據(jù)SEM儀器的要求和樣品性質(zhì)，調(diào)整樣品的位置和儀器的參數(shù)。

適當(dāng)?shù)臉悠奉A(yù)處理：在進(jìn)行SEM觀察之前，對(duì)樣品進(jìn)行適當(dāng)?shù)念A(yù)處理，如表面清潔、涂覆保護(hù)層或使用導(dǎo)電涂層等。這有助于減少電子束與樣品之間的相互作用和損傷風(fēng)險(xiǎn)。

限制電子束曝光時(shí)間：盡量避免樣品長(zhǎng)時(shí)間暴露在電子束下，特別是在高電流密度下?？梢栽谟^察期間定期切換觀察區(qū)域，以減少局部熱積累和損傷。

以上措施的選擇和實(shí)施應(yīng)根據(jù)具體樣品的特性、儀器的要求和應(yīng)用的目的來(lái)確定。同時(shí)，建議參考SEM儀器的操作手冊(cè)和制造商的建議。

ZEM15臺(tái)式掃描電子顯微鏡

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